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  ■ 产品展示
武汉第四印染厂应用光催化氧化技术处理印染废水工程主体设备

 

光催化氧化技术是近来发展起来的一项废水处理新技术,其基本原理是利用半导体物质作光化学反应的催化剂,当具有一定能量的紫外光照在半导体表面时就会激活低能量的电子,产生游离电子,具有强氧化性,可吸附在半导体表面的废水中的有机物发生氧化还原反应,将各种有机物氧化为醇、醛、酸,最后生成CO2和无机离子。

本技术特点:废水处理在常温压下进行,对污染物处理适用范围广、处理效率高、不产生二次污染、不需要氧化剂通入适量的空气、装置设备化,特别适用于大多数不能或难于生物降解的有机物,使废水中的有机物完全矿化生成CO2和简单无机离子。目前该技术已进入工业化废水处理应用阶段,对印染废水、制药废水等进行工业化废水处理,效果良好,均能达到国家规定的排放标准。

 
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